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上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機

  • 產品型號:
  • 產品時間:2025-06-06
  • 簡要描述:上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機適用于光譜研究的試樣磨平。
    1. 無級調速控制
    2. 下方配有吸塵裝置,可吸走磨削物
    3. 安全鎖扣,1/4磨面,保護操作員
  • 產品簡介

上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機

上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機

1. 無級調速控制

2. 下方配有吸塵裝置,可吸走磨削物

3. 安全鎖扣,1/4磨面,保護操作員

適用于光譜研究的試樣磨平。    

  在金相試樣制備和光譜分析應用中,試樣的磨平是金相制樣和光譜分析前*的重要工序。GPM-2-300型光譜磨平機整機采用噴塑工藝制作,雙盤獨立控制,磨盤無級調速,*罩殼設計可有效保障磨樣安全,機箱內裝有吸塵裝置可避免環境污染,該機啟動平穩、傳動功率大、噪音低,可滿足不同材料的制備要求,提高試樣的磨拋質量和制備效率,是一種非常理想和功能完善的金相制樣制備。

上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機

型號

GMP-2-300

磨盤直徑

300mm

砂紙直徑

300mm

轉速

無級調速100~1400r/min

或四檔速300, 600, 900, 1400 r/min

轉向

順時針或逆時針

電機功率

550W

顯示及操作

數碼管顯示,薄膜按鍵操作,帶吸塵裝置

輸入電源

單相220V, 50Hz, 10A

外形尺寸

820×440×940mm

凈重

122kg

標準配置:

名稱

規格

數量

主機


1臺

磨盤

300mm

2個

砂紙

300mm

2張

內六角扳手

5mm

1把

說明書


1份

合格證


1份

上海金相宇舟牌GPM-2-300雙盤光譜磨平機


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